被稱為“數字曝光”的印刷方法自18 世紀德國發明以來已經取得了長足的進步。如今，數字曝光可以在各種表麵上打印文本和圖像，包括書籍和T 恤。
這種印刷技術的變化不斷激發新的創新。設計人員使用一種稱為直接成像數字曝光的技術，通過將感光材料暴露在紫外(UV) 光下，快速、輕鬆地“打印”各種電子產品。
直接成像數字曝光現在可用於創建印刷電路板(PCB)、球柵陣列(BGA)、芯片級封裝(CSP)、平板顯示器、實時條形碼標記和計算機直接製版印刷—— 印刷處理數字圖像可以直接從計算機發送到印刷版。
與傳統數字曝光技術相比，直接成像數字曝光具有眾多優勢，包括更大的材料靈活性、更低的成本和更快的打印速度。
TI 支持的直接成像數字曝光
在TI，我們的DLP 高速數字微鏡器件(DMD) 為需要微米級精度的直接成像數字曝光開發人員提供了強大的工具，可在批量生產情況下實現快速曝光並降低運營成本。
通過使用可編程光控DLP技術，開發人員可以將圖案直接曝光到光刻膠薄膜上，而無需接觸掩模，從而降低了材料成本，提高了生產率，並能夠實現圖案的快速變化，使得該技術非常適合需要最小形狀的情況因素需要兩次曝光。
TI 高度靈活的芯片組架構還提供多係統控製和連接選項，例如電機同步觸發器、傳感器和其他外設。
DLP直接成像數字曝光典型係統框圖
觀看視頻，了解DLP 無掩模數字曝光如何降低成本並提高PCB 可靠性
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我們擁有多種適合數字曝光應用的DLP 數字微鏡器件。 DLP6500FLQ、DLP7000、DLP9000 和DLP9500 芯片係列均支持低至400 納米的波長。最近，我們在ti.com 上推出了DLP7000UV 和DLP9500UV，支持低至363 納米的波長。
TI 為所有這些DMD 提供評估模塊庫，以及用於數字曝光的補充TI Designs 參考設計，其中包括電路原理圖、布局布線文件、物料清單和測試報告。
TI Design 擁有獨特的係統級DLP 開發板。由於集成了由超過400萬個微鏡製成的最高分辨率的DLP數字微鏡器件DLP9000X——，該開發板具有最大的數據吞吐量；該開發板還配備了我們最快的數字控製器DLPC910，它支持高達每秒60 GB 的數據速率。 DLPC910 數字控製器還為設計人員提供了先進的像素控製，除了全幀輸入功能之外，還支持隨機行尋址。
